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烽火通信:下一代PON技术的发展
发布时间:2025-07-02 12:43:43  来源:华夏农业科技有限公司

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通信Angew.Chem.Int.Ed.2017,56,3552–3556。【成果简介】近日,技术复旦大学武利民教授(通讯作者)课题组在ACSNano上发表了题为Large-AreaPreparationofRobustandTransparentSuperomniphobicPolymerFilms的研究论文。

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图5在涂有聚合物薄膜的4英寸硅晶片上液滴的光学照片 图6所得聚合物薄膜的化学稳定性和机械强度试验 a-c)在室温下,烽火聚合物薄膜分别浸泡在强酸,烽火强碱和高浓度NaCl溶液中96小时。然而,通信制造这种具有特定表面形貌的超双疏材料相当耗时,通常涉及昂贵的光刻工具或复杂的化学过程。它们不仅具有优异的液体排斥性能和自清洁性能,技术而且具有高透明度和良好的耐物理磨损、抗强酸/强碱和浓盐溶液的特性。

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g)水(蓝色),烽火乙二醇(黄色),矿物油(红色)和橄榄油(绿色)液滴在聚合物薄膜表面上的形状照片。欢迎大家到材料人宣传科技成果并对文献进行深入解读,通信投稿邮箱[email protected]

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技术图7聚合物薄膜的柔韧性 a)反复循环弯曲和恢复的聚合物薄膜的水接触角的变化。

文献链接:烽火Large-AreaPreparationofRobustandTransparentSuperomniphobicPolymerFilms(ACSNano,烽火2018,DOI:10.1021/acsnano.8b05600)本文由材料人学术组键仔供稿,材料牛整理编辑。通信(e)B掺杂g-C3N4/SnS2的顶视图。

技术本文由材料人编辑部张金洋编译整理。与g-C3N4、烽火B掺杂g-C3N4和SnS2相比,g-C3N4/SnS2和B掺杂g-C3N4/SnS2异质结构的带隙较小。

Z-schemeB掺杂g-C3N4/SnS2的速率步骤的ΔG远低于g-C3N4/SnS2的ΔG,通信表明Z-schemeB-掺杂g-C3N4/SnS2异质结构是更高效的光催化剂。g-C3N4/SnS2和B掺杂g-C3N4/SnS2异质结构的功函数和电荷密度差异,技术表明其电荷转移机制是Z-scheme电荷转移机制。

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